コントローラ部 VK-X1000
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推奨代替機種
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VK-X3000
仕様
型式 | VK-X1000 | |||
種類 | コントローラ部 | |||
総合倍率 | ~ 28800 倍 *1 | |||
視野 (最小視野範囲) | 11 µm ~ 7398 µm | |||
フレームレート (レーザ測定スピード) | 4 ~ 125 Hz、7900 Hz *2 | |||
測定原理 | 光学系 | ピンホール共焦点光学系、フォーカスバリエーション | ||
受光素子 | 16 bit センシングフォトマルチプライヤ/超高精細カラーCMOS | |||
スキャン方式 (通常測定時及び画像連結時) | 自動上下限設定機能、高速光量最適化機能 (AAGⅡ) 、反射光量不足補完機能 (ダブルスキャン) | |||
高さ測定 | 表示分解能 | 0.5 nm (VK-X1100) 、5 nm (VK-X1050) | ||
リニアスケール | ||||
高さフレームメモリ | 24 bit (VK-X1100) 、21 bit (VK-X1050) | |||
繰り返し精度 σ | レーザーコンフォーカル | ×10 100 nm、×20 40 nm、×50 12 nm (VK-X1000/1100) | ||
フォーカスバリエーション | ×5 500 nm、×10 100 nm、×20 50 nm、×50 20 nm (VK-X1000/1100) | |||
高さデータ取得範囲 | 70万 ステップ | |||
正確さ | 0.2 + L/100 µm 以下 (L = 測定長 µm) *3 | |||
幅測定 | 表示分解能 | 1 nm (VK-X1100) 、10 nm (VK-X1050) | ||
繰り返し精度 3σ | レーザーコンフォーカル | ×10 200 nm、×20 100 nm、×50 40 nm (VK-X1000/1100) | ||
フォーカスバリエーション | ×5 400 nm、×10 400 nm、×20 120 nm、×50 50 nm (VK-X1000/1100) | |||
正確さ | 測定値の ±2 % 以内 *3 | |||
XYステージ構成 | 手動 稼働範囲 | 70 mm x 70 mm | ||
電動 稼働範囲 | 100 mm x 100 mm | |||
観察 | 観察画像 | 超高精細カラーCMOS画像、16 bitレーザカラー共焦点画像、共焦点 + NDフィルタ光学系、C - レーザ微分干渉画像 | ||
照明 | リング照明、同軸落射照明 | |||
測定用レーザ光源 | 波長 | 紫色半導体レーザ 404 nm (VK-X1100) | ||
最大出力 | 1 mW | |||
クラス | クラス2 (JIS C6802) | |||
電源 | 電源電圧 | AC100 ~ 240 V、50/60 Hz | ||
消費電流 | 150 VA | |||
質量 | 約3.0 kg | |||
*1 23 型モニタ - 画面上での倍率 (フル画面表示のとき) 。 |