固体レーザーの励起方式

レーザー溶接におけるの励起の方式には、ランプ励起と半導体レーザー励起があります。

ランプ励起

ランプ励起方式の光源には、主に希ガス*が用いられ、「希ガスフラッシュランプ」または「フラッシュランプ」励起方式といわれています。他の光源に比べてコストパフォーマンスに優れています。一方、発光スペクトルが広いため、レーザー媒質の吸収スペクトルとの整合性やレーザー媒質への熱の負荷などが問題になります。

希ガス：周期表18族に属する、ヘリウム・ネオン・アルゴン・クリプトン・キセノン・ラドンの六元素の総称。

ランプ励起

半導体レーザー（LD：Laser Diode）励起は発光スペクトルが狭く、レーザー媒質の特定の吸収遷移を選択して励起することができます。また、高い吸収効率が得られ、集光性に優れているので高密度励起が可能です。さらに、レーザー媒質への負担も少なく、高い信頼性が得られます。

半導体レーザー（LD：Laser Diode）励起